书目详细信息
： 表面分析 (XPS和AES) 引论
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-5628-2226-4:CNY28.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi eng |
| 出版国别： | CN 310000 |
| 题名责任者项： | 表面分析 (XPS和AES) 引论/.原著沃茨(John F. Watts) (英), John Wolstenholme (英)/.译吴正龙 |
| 出版发行项： | 上海:,华东理工大学出版社:,2008 |
| 载体形态项： | 144页:;+图:;+24cm |
| 丛编项： | 当代材料科学与工程译丛 |
| 提要文摘： | 本书讲述了现代电子能谱中的单色化XPS、小面积XPS (SAXPS)、成像XPS、 XPS深度剖析、场发射AES/SAM等功能的分析技术, 以及在冶金、腐蚀、陶瓷、催化剂、微电子半导体材料、黏合剂、涂料聚合物材料等领域中的应用; 介绍了现代电子能谱仪中的微聚焦单色器、场发射体、离子枪、电子枪、能量分析器/传输透镜、荷电补偿器、多通道探测器、平行成像系统、平行数据采集、数据处理系统等等。书中将XPS和AES技术与其他表面分析技术作了比较。书后附有参考文献、中英文电子能谱分析技术名词术语、网络资源等一些有用的信息。 |
| 题名主题： | 表面分析 概论 |
| 题名主题： | 表面分析 |
| 中图分类： | O655.9 |
| 个人名称等同： | 沃茨 原著 |
| 个人名称等同： | 沃斯滕霍姆 原著 |
| 个人名称次要： | 吴正龙 译 |