书目详细信息
： 晶体生长基础与技术
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-7-03-074843-0:CNY128.00 |
|---|---|
| 作品语种： | chi |
| 出版国别： | CN 110000 |
| 题名责任者项： | 晶体生长基础与技术/.王国富, 李凌云著 |
| 出版发行项： | 北京:,科学出版社:,2023 |
| 载体形态项： | 202页:;+图:;+25cm |
| 提要文摘： | 本书系统介绍了人工晶体生长的基础理论和相图技术, 在此基础上全面介绍了人工晶体生长主流技术如水溶液法、助熔剂法、水热法、焰熔法、提拉法和坩埚下降法等, 详细介绍了上述人工晶体生长技术的基本原理、设备设计与构造、生长工艺以及它们的优缺点等。同时, 作者结合自身多年科研工作成果积累, 选择性介绍了几种重要的光电子晶体材料的生长技术。 |
| 题名主题： | 晶体生长 |
| 中图分类： | O78 |
| 个人名称等同： | 王国富, 著 |
| 个人名称等同： | 李凌云, 著 |
| 记录来源： | CN SCYK 20240415 |